Fachartikel aus MECHATRONIK 4/2000, S. 39

Wie eine Fotoresist-Technologie die optische Auflösungsgrenze nasführt

Der Trick mit dem Nanoloch

Zur Übertragung von Maskenstrukturen auf den Chip sind lichtoptische Belichtungsanlagen heute weltweiter Standard. Ein chemischer Prozess soll nun die etablierte Technologie auch für feinste Chipmuster tauglich machen.